Chip super miniaturizzati

Aziende

I laboratori di Ibm svilppano un sistema per produrre a 29 nanometri

I ricercatori del centro di ricerca Ibm di Almaden, California, (www.almaden.ibm.com) hanno annunciato di aver trovato un sistema per la fabbricazione di chip che, migliorando le attuali tecniche di litografia ottica utilizzate per stampare i circuiti, permetterà di produrre semiconduttori ancora più piccoli e di rinviare di la tappa di arresto, preannunciata ormai da alcuni anni, nell’evoluzione e nella miniaturizzazione dei chip. Nel centro Ibm si è infatti riusciti a creare i più piccoli circuiti di alta qualità mai realizzati fino a oggi utilizzando la litografia ottica con ultravioletti profondi (Duv 193 nanometri), capace di realizzare tracce larghe appena 29,9 nanometri, contro i 90 nanometri degli attuali standard di produzione e contro i 32 nanometri ritenuti fino a oggi il limite massimo raggiungibile con le tecniche di litografia ottica. La riuscita dell’esperimento è stata possibile grazie all’utilizzo di Nemo, un apparato sperimentale sviluppato da Ibm che permette la litografia interferometrica, cioè un sistema che traccia i circuiti con due raggi laser intersecanti che creano pattern di interferenze luce/ombra con spaziature più ristrette rispetto a quanto sia possibile con gli attuali macchinari di produzione di chip.

Autore: ITespresso
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