Da Intel il processo di produzione del chip più evoluto al mondo

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Un processo produttivo per raggiungere maggiori frequenze con un minor consumo di energia

Il nuovo processo a 90 nm (un nanometro corrisponde a un miliardesimo di metro) combina transistor a prestazioni pi elevate e a minore consumo di energia, la tecnologia strained silicon, connessioni in rame ad alta velocit e un nuovo materiale dielettrico a bassa costante k. Per la prima volta tutte queste tecnologie verranno integrate in un singolo processo di produzione. Per oltre un decennio, Intel ha determinato il trend della Legge di Moore presentando un processo produttivo di nuova generazione ogni due anni. Il processo a 90 nm rappresenta la prossima generazione dopo il processo a 0,13 micron, utilizzato attualmente da Intel per realizzare i propri microprocessori. Il nuovo processo a 90 nm di Intel si baser su transistor di appena 50 nm di lunghezza (lunghezza del gate), che saranno i pi piccoli transistor CMOS (Complementary Metal Oxyde Semiconductor) con le prestazioni pi elevate in produzione. In confronto, i transistor pi evoluti prodotti attualmente e che sono alla base dei processori Intel Pentium 4 misurano 60 nm. I transistor piccoli e veloci sono gli elementi di base di processori estremamente veloci. Questi transistor hanno uno spessore del gate oxide (ossido di controllo) di soli 5 strati atomici (1,2 nm). Il gate oxide sottile aumenta la velocit dei transistor. Intel ha integrato in questo processo la propria implementazione dello strained silicon ad elevate prestazioni. Grazie a questo tipo di silicio, la corrente circola pi rapidamente e aumenta la velocit dei transistor. Questo processo Intel sar il primo del settore ad implementare strained silicon nella produzione. Il processore a 90 nm di Intel integra sette strati di connessioni in rame ad alta velocit che aumentano le prestazioni del processore. Per questo processo viene utilizzata una combinazione di apparecchiature per litografia con lunghezza donda di 248 nm e 193 nm. Lazienda prevede inoltre di riutilizzare circa il 75% degli strumenti impiegati nellattuale versione a 300 mm del processo a 0,13 micron, riducendo i costi di implementazione e fornendo un set di strumenti gi testati per la produzione. Per ulteriori informazioni su questo processo, visitate il sito Intel Silicon Showcase allindirizzo http://www.intel.com/research/silicon .

Autore: ITespresso
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