Ibm: nuove prospettive per il futuro dei semiconduttori

ComponentiWorkspace

Una ricerca trova la soluzione per prolungare l’uso delle attuali tecniche di produzione di chip

I ricercatori IBM hanno annunciato di aver trovato il modo di modificare uno dei processi fondamentali per la fabbricazione di chip per produrre circuiti più piccoli. Questa scoperta potrebbe ritardare la conversione, ad alto rischio per il settore dei semiconduttori, a un’alternativa estremamente costosa. I ricercatori IBM hanno creato gli schemi di circuiti di alta qualità più piccoli mai realizzati finora utilizzando la litografia ottica con ultravioletti profondi (DUV 193 nanometri), tecnologia utilizzata attualmente per lo più per “stampare” i circuiti sui chip.Le tracce, ben definite e spaziate in modo uniforme, sono larghe appena 29,9 nanometri (un nanometro equivale a un miliardesimo di metro), ovvero meno di un terzo rispetto alle dimensioni delle attuali tecnologie in produzione di massa di 90 nanometri e meno dei 32 nanometri che il settore considerava il limite per le tecniche di litografia ottica. “Il nostro obiettivo è spingere la litografia ottica il più lontano possibile, in modo da non dover ricorrere ad alternative costose finché non sarà assolutamente necessario”, ha dichiarato il Dr. Robert D. Allen, responsabile dei materiali litografici presso il Centro di Ricerca Almaden di IBM. “Questo risultato dimostra chiaramente, come mai era stato fatto finora, che il settore avrà margine di manovra per almeno altri sette anni prima che si rendano necessari cambiamenti drastici nelle tecniche di produzione dei chip”. “Il nostro obiettivo è spingere la litografia ottica il più lontano possibile, in modo da non dover ricorrere ad alternative costose finché non sarà assolutamente necessario”, ha dichiarato il Dr. Robert D. Allen, responsabile dei materiali litografici presso il Centro di Ricerca Almaden di IBM. “Questo risultato dimostra chiaramente, come mai era stato fatto finora, che il settore avrà margine di manovra per almeno altri sette anni prima che si rendano necessari cambiamenti drastici nelle tecniche di produzione dei chip”. Lo schema di dimensioni record di linee e spazi ben definiti e con spaziatura uniforme di 29,9 nanometri è stato creato con un apparato sperimentale per litografia ideato e realizzato dal centro di Ricerca IBM di Almaden, utilizzando nuovi materiali sviluppati dal partner JSR Micro (Sunnyvale, California). I primi dati tecnici saranno resi noti questa settimana (lunedì 20 febbraio 2006) alla conferenza SPIE Microlithography che si tiene a San José, California.

Autore: ITespresso
Clicca per leggere la biografia dell'autore  Clicca per nascondere la biografia dell'autore