Infineon, Philips e STMicroelectronics: un progetto per condurre l’Europa ai confini della tecnologia CMOS

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La Commissione Europea contribuirà al finanziamento di un progetto
integrato chiamato NANOCMOS, destinato a mantenere l’Europa
all’avanguardia nelle tecnologie dei semiconduttori.

Il progetto, che si propone di identificare e sperimentare le innovazioni a livello dei materiali, dei processi, delle architetture dei dispositivi e delle interconnessioni, necessari per continuare ad estendere le prestazioni e la densità dei semiconduttori oltre i limiti, vede la partecipazione di Infineon, Philips e STMicroelectronics, i due maggiori istituti europei di ricerca tecnologica – CEA Leti (Francia) e IMEC (Belgio), tre laboratori di ricerca coordinati da FhG (Germania), otto laboratori di ricerca coordinati dal CNRS (Francia), un laboratorio di ricerca della Technical University of Chemnitz (Germania), tre aziende Ion Beam Services (Francia), ISILTEC (Germania), Magwel (Belgio) e ACIES Europe (Francia), la quale si occuperà di alcuni aspetti di gestione del progetto. I partecipanti al progetto si propongono di dimostrare la fattibilità della tecnologia CMOS da 45 nanometri per il 2005, iniziando nello stesso tempo le attività di ricerca sulle tecnologie di futura generazione per i nodi da 32 e 22 nanometri. Queste dimensioni sono attualmente considerate ai limiti estremi delle odierne tecnologie. Ci si attende che i risultati del progetto NANOCMOS aprano la strada ad applicazioni assolutamente innovative per la società dell’informazione. La prima fase del progetto NANOCMOS ha una durata prevista di 27 mesi e mobiliterà un notevole potenziale di ricerca. Oltre al contributo di 24 milioni di Euro della Commissione Europea, i membri del consorzio metteranno al servizio degli obiettivi del progetto anche le proprie risorse dedicate alla ricerca avanzata. I membri del consorzio intendono presentare alla Commissione Europea una proposta per una seconda fase del progetto NANOCMOS che inizierà nel 2006.Questa fase si propone di dimostrare la fattibilità della realizzazione dei nodi tecnologici da 32 e 22 nanometri. Il consorzio sottoporrà inoltre all’organizzazione MEDEA+ un progetto, con inizio nel 2006, relativo all’integrazione e alla validazione del tecnologia nodo tecnologico da 45 nanometri in un impianto industriale di produzione per wafer da 300 nanometri: si pensa attualmente all’impianto di Crolles2, gestito congiuntamente da Motorola, Philips e STMicroelectronics. Queste due future proposte di progetto fanno parte della strategia globale di NANOCMOS e sono state discusse sia con la Commissione Europea che con i responsabili di MEDEA+.

Autore: ITespresso
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